Формирование тонких пленок дисилицида бария на SI (111) методами реактивной и твердофазной эпитаксии и исследование IN-SITU их свойств

  • Home   /  Архив   /  2016   /  №73   /  
  • Формирование тонких пленок дисилицида бария на SI (111) методами реактивной и твердофазной эпитаксии и исследование IN-SITU их свойств

Формирование тонких пленок дисилицида бария на SI (111) методами реактивной и твердофазной эпитаксии и исследование IN-SITU их свойств

Автор Страницы Скачать
Дубов В.Л., Фомин Д.В. 55-57 PDF

Поиск

Номера

© 2018 Вестник АмГУ.

Амурский государственный университет